디엔에프9,310원, ▲140원, 1.53%가 급등세다. 18일 오전 10시 19분 현재 디엔에프는 전일 대비 8.9%(1700원) 오른 2만750원에 거래되고 있다. 이날 디엔에프는 전일 종가 대비 4.9% 상승한 2만원에 시작했다. 이후 장 중 한때 11.5% 급등, 2만1250원에 거래되기도 했다.

한편 이날 메리츠종합금융증권 박유악 연구원은 ‘매수적기. ’DRAM 미세화‘ 및 ’V-NAND 양산‘ 수혜’란 제목으로 보고서를 발표했다. 박 연구원은 올 1분기 디엔에프의 삼성전자 DRAM용 소재(DPT, High-K) 공급이 지속적으로 증가하고 있고, SK하이닉스 용 신규 소재 공급도 늘어나고 있다고 분석했다. 특히 삼성전자의 DRAM 공정은 25나노미터에서 20나노미터로 전환돼 디엔에프가 미세공정 수혜를 입을 것으로 예상했다.

또한 2분기에는 디엔에프 제품의 전 부문에 걸쳐 출하량이 늘어나며 실적이 개선될 것으로 전망했다. DRAM 미세화에 따른 DPT와 High-K 출하가 증가하고 V-NAND 소재인 HCDS 역시 삼성전자의 중국 시안공장에 본격적으로 납품할 것으로 내다봤다.

박 연구원은 올 1분기 개별 기준 예상 매출액을 183억원(+65%, 이하 전년 동기비), 영업이익 45억원(+65%)을 거둬 성장을 지속할 것으로 예상했다. 또한 2분기에는 매출액 208억원(+40%), 영업이익 52억원(+30%)으로 사상최대 실적을 거둘 것으로 전망했다.

다른 증권업계의 실적 전망도 긍정적이다. 증권정보 제공업체 와이즈에프엔(WISEfn)에 따르면 증권업계는 디엔에프의 1분기 개별 기준 매출액을 181억원(63.1%), 영업이익은 45억원(66.7%)을 거두고, 2분기에는 매출액 201억원(34.9%), 영업이익 52억원(30%)을 기록할 것으로 예상했다. 증권사 실적 예상치는 최근 3개월간 메리츠종합금융증권을 포함한 4개 회사에서 발표한 전망치의 평균값이다.



디엔에프는 반도체 전(前) 공정에 사용되는 화학소재를 만드는 회사로 DRAM 미세화에 따른 희생막용 전구체, Low-K(저유전막 재료), High-K(고유전막 재료), HCDS 전구체 등을 생산하고 있다. 기존에 수입해 사용되던 CVD(Chemoical Vapor Deposition, 화학기상증착) 전구체 국산화에 성공, 실적이 큰 폭으로 증가했다. 자난 2012년 DPT(Double Patterning Technology) 소재 공급을 시작으로 최근에는 HIGH-K 소재를 납품하기 시작했다.

현재 주가는 실적개선에 대한 기대감이 반영된 상태다. 지난해 실적으로 계산한 디엔에프의 주가수익배수(PER)는 21.8배다. 주가순자산배수(PBR)는 5.20배, 자기자본이익률(ROE)은 23.9%다.

디엔에프는 지난 2013년 134억원의 순이익 적자를 내면서 자본총계가 전년 대비 43% 감소한 바 있다. 자본총계가 감소한 상태에서 2014년 이익이 흑자전환하면서, PBR과 ROE 모두 높은 수치를 보였다.