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주성엔지, 목표가 1만2000원 유지...'신규 수주 기대'
[아이투자 강우람] 대우증권이 16일 주성엔지니어링27,150원, ▲100원, 0.37%에 대해 매수 투자의견을 유지하고 목표주가 1만2000원을 유지했다. 전일 종가는 1만1400원이다.
주성엔지니어링은 반도체 전공정, LCD, OLED장치 등 디스플레이 장치업과 태양광 에너지사업 영위하는 업체로 최근 유럽, 아프리카 등 해외 시장 개척에 주력하고 있다.
대우증권은 주성엔지니어링의 4분기 매출액, 영업이익이 전년대비 각각 56.8%, (영업적자전환) 감소한 528억원 영업적자 24억원을 기록할 것으로 내다봤다. 이는 4분기 중국 태양광 장비 수주가 크게 없었고 LCD장비 매출 부진에 근거한다.
대우증권은 내년 주성엔지니어링에 대한 실적 전망도 내놓았다. 태양전지 시장에서의 수주 증가와 주성엔지니어링이 작년 11월에 발표한 *Oxide TFT증착 장비 개발(IZGO증착 장비는 물리적 증착은 *Sputter방식이 아닌 화학적 증착인 *MOCVD 방식이 특징)로 매출이 늘어나지 않으면 실적 개선이 쉽지 않을 것으로 전망했다.
주성엔지니어링에 투자의견을 제시한 4개 증권사의 최근 3개월 평균 목표주가 컨센서스는 지난 13일 기준 1만2250원이다. 최고가는 1만4200원, 최저가는 1만300원이다.
*Oxide TFT
- 대면적, 고해상도 구현이 가능할 뿐 아니라 무안경 3D TV로의 적용도 가능하고, Oxide 물질은 상온에서 공정이 가능하여 플라스틱 기판을 활용한 디스플레이 구현이 가능하다, 또한 투명하다는 장점이 있어 차세대 디스플레이에 응용 가능한 차세대 트렌지스터로 많은 주목을 받고 있다. Oxide TFT는 각종 디스플레이 패널의 백플레인 구동소자로서 그 잠재적인 기능성과 실용성을 충분히 인정받고 잇으며 각국의 디스플레이 패널 메이저 업체에서도 양산을 염두에 둔 연구 개발 투자가 이루어지고 있기에 조만간 Oxide TFT가 LCD, AMOLED, 등의 시장에 속속 등장할 것으로 전망된다.
*Sputter 방식
-전자나 이온을 대상이 되는 타겟에 쏘아서 튕겨져 나온 이온들을 반도체 표면에 박막을 성장하게 하는 방식으로 금속을 쌓는데 사용된다.
*Mocvd 방식 (metalorganic chemical vapor deposition)
-고온의 기판 위에 원료 가스를 유출시켜, 그 표면상에서 분해반응을 일으켜 박막을 형성하는 화학증착(CVD)의 하나로, 원료가스 중에 트리메틸갈륨 등의 유기 금속 착물을 포함하는 경우를 말한다. . 할로겐화물의 기체를 사용하는 CVD보다 저온에서 조작하게 되고,원자 오더에서의 박막 제어가 가능하다. GaAs 등의 전자재료 박막을 만드는 기술로 주목을 받고 있다.
[투자포인트]
-향후 태양열 장비 수주 기대
-새로운 공정 개발로 인한 신규 수주 기대
주성엔지니어링은 반도체 전공정, LCD, OLED장치 등 디스플레이 장치업과 태양광 에너지사업 영위하는 업체로 최근 유럽, 아프리카 등 해외 시장 개척에 주력하고 있다.
대우증권은 주성엔지니어링의 4분기 매출액, 영업이익이 전년대비 각각 56.8%, (영업적자전환) 감소한 528억원 영업적자 24억원을 기록할 것으로 내다봤다. 이는 4분기 중국 태양광 장비 수주가 크게 없었고 LCD장비 매출 부진에 근거한다.
대우증권은 내년 주성엔지니어링에 대한 실적 전망도 내놓았다. 태양전지 시장에서의 수주 증가와 주성엔지니어링이 작년 11월에 발표한 *Oxide TFT증착 장비 개발(IZGO증착 장비는 물리적 증착은 *Sputter방식이 아닌 화학적 증착인 *MOCVD 방식이 특징)로 매출이 늘어나지 않으면 실적 개선이 쉽지 않을 것으로 전망했다.
주성엔지니어링에 투자의견을 제시한 4개 증권사의 최근 3개월 평균 목표주가 컨센서스는 지난 13일 기준 1만2250원이다. 최고가는 1만4200원, 최저가는 1만300원이다.
*Oxide TFT
- 대면적, 고해상도 구현이 가능할 뿐 아니라 무안경 3D TV로의 적용도 가능하고, Oxide 물질은 상온에서 공정이 가능하여 플라스틱 기판을 활용한 디스플레이 구현이 가능하다, 또한 투명하다는 장점이 있어 차세대 디스플레이에 응용 가능한 차세대 트렌지스터로 많은 주목을 받고 있다. Oxide TFT는 각종 디스플레이 패널의 백플레인 구동소자로서 그 잠재적인 기능성과 실용성을 충분히 인정받고 잇으며 각국의 디스플레이 패널 메이저 업체에서도 양산을 염두에 둔 연구 개발 투자가 이루어지고 있기에 조만간 Oxide TFT가 LCD, AMOLED, 등의 시장에 속속 등장할 것으로 전망된다.
*Sputter 방식
-전자나 이온을 대상이 되는 타겟에 쏘아서 튕겨져 나온 이온들을 반도체 표면에 박막을 성장하게 하는 방식으로 금속을 쌓는데 사용된다.
*Mocvd 방식 (metalorganic chemical vapor deposition)
-고온의 기판 위에 원료 가스를 유출시켜, 그 표면상에서 분해반응을 일으켜 박막을 형성하는 화학증착(CVD)의 하나로, 원료가스 중에 트리메틸갈륨 등의 유기 금속 착물을 포함하는 경우를 말한다. . 할로겐화물의 기체를 사용하는 CVD보다 저온에서 조작하게 되고,원자 오더에서의 박막 제어가 가능하다. GaAs 등의 전자재료 박막을 만드는 기술로 주목을 받고 있다.
[투자포인트]
-향후 태양열 장비 수주 기대
-새로운 공정 개발로 인한 신규 수주 기대
[주성엔지니어링] 기업정보
| 기업개요 | 반도체 전공정, 디스플레이 생산장비 제조업체. 태양광 부문의 비중을 확대하고 있음 |
|---|---|
| 사업환경 | 태양전지 사업을 중심으로 북미·중국, 유럽·아프리카 등으로 해외시장 확대 |
| 경기변동 | 반도체, 디스플레이 업황에 매우 민감. 태양광 시황에도 민감해지는 상황임 |
| 실적변수 | 국내 주요 반도체·디스플레이 업계의 설비투자 규모, 연간·분기별 실적 추이 |
| 신규사업 | LED·OLED 장비 부문 강화 |
(자료 : 아이투자 www.itooza.com)
[주성엔지니어링] 실적 및 주요 투자 지표
(단위: 억원)
| 손익계산서 | 2011.9월 | 2010.12월 | 2009.12월 | 2008.12월 |
|---|---|---|---|---|
| 매출액 | 2,641 | 4,234 | 1,701 | 1,522 |
| 영업이익(보고서) | 84 | 489 | 144 | -183 |
| 영업이익률(%) | 3.2% | 11.5% | 8.5% | -12% |
| 영업이익(K-GAAP) | 71 | 489 | 144 | -183 |
| 영업이익률(%) | 2.7% | 11.5% | 8.5% | -12% |
| 순이익(지배) | 46 | 367 | 20 | -295 |
| 순이익률(%) | 1.7% | 8.7% | 1.2% | -19.4% |
| 주요투자지표 | |
|---|---|
| 이시각 PER | 39.87 |
| 이시각 PBR | 1.65 |
| 이시각 ROE | 4.15% |
| 5년평균 PER | 101.72 |
| 5년평균 PBR | 2.39 |
| 5년평균 ROE | 6.31% |
(자료 : K-IFRS 개별 재무제표 기준)
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