[V차트 우량주] 국제엘렉트릭, 반도체 미세화 공정 '수혜'

[아이투자 강현정] 국제엘렉트릭은 반도체 전(前)공정 장비 업체로, 1993년 글로벌 반도체 장비 메이커인 일본 히타치국제전기와 합작으로 설립됐다, 2010년에 히타치국제전기가 경영권을 인수해 특수관계인 포함 지분 54.46%를 보유하고 있다. 

주력 제품은 화학기상증착(CVD) 장비다. 반도체 제조 공정은 판화와 유사하다. 반도체 회로가 그려진 판(마스크)을 이용해 웨이퍼 위에 같은 모양을 새기는 작업이다. 다만 직접 찍지 않고 마스크에 전자빔 등을 통과시켜 새긴다. 한 번에 회로 전체를 그릴 수 없어 여러 가지 마스크를 통해 회로를 하나하나 형성해 간다.

이 과정에서 필요에 따라 산화막, 절연막, 전도성막 등을 웨이퍼 위에 증착시켜야 하는데, 여기에 쓰이는 장비가 바로 CVD 장비다. 가스들을 혼합시켜 화학반응을 이용해 필요한 물질들을 만들어 증착시키는 방법을, 화학적으로 증기를 침전시킨다고 해서 CVD(Chemical Vapor Deposition)라 부른다.

앞서 설명한 것처럼, CVD를 통해 증착되는 물질은 다양하다. 또한 생산업체별·공정별로 요구하는 물질도 조금씩 다르다. 이에 따라 국내 CVD 업체는 전반적으로 독자적인 영역을 확보하고 있다. 테스와 원익IPS는 플라즈마 화학기상증착(PE CVD)장비가 주력이며 유진테크, 국제엘렉트릭은 저압 화학기상증착(LP CVD)장비에 강점이 있다.

▷ 미세공정 확대 ‘수혜’

국제엘렉트릭 실적은 반도체 업체 투자에 영향을 받는다. 2008년 금융위기로 반도체 투자가 줄어들면서 감소하던 매출액은 2010년부터 대폭 늘어나기 시작했다. 2009년 말부터 IT수요 회복으로 반도체 업체들의 투자가 다시 시작된 영향이다.

특히 스마트폰 사용자가 늘어나면서 작으면서도 성능이 우수한 반도체 수요가 늘어나면서 미세화 공정에 유리한 LPCVD 발주가 늘어났다. 이에 따라 국제엘렉트릭이 수혜를 입은 것으로 보인다.

CVD 제품은 저온에서 반도체 공정이 가능하다는 장점이 있다. 얼마 전까지만 해도 국내 반도체 기업들은 대량생산이 가능한 고온 반도체 공정장비(Diffusion)를 선호해 왔다. 그러나 반도체의 집적도를 높이는 미세공정에서 고온의 반도체 공정은 부담이 심하다. 고온 반도체 공정에서는 미세공정일수록 독성이 강한 가스를 더 많이 사용해야 하기 때문이다. 그러나 노동자의 방호복에는 한계가 있어 CVD 장비로 대체되고 있다.

2012년부터 업황 악화로 반도체업체들이 투자규모를 축소하면서 부진한 실적을 기록하던 국제엘렉트릭은 지난해 하반기부터 다시 개선된 모습을 보이고 있다. 반도체업체들이 투자를 재개한 덕분이다. 특히 삼성전자가 지난해 9월부터 중국 시안 공장에 3D 낸드플래시 공장을 증설한 점이 실적 개선을 이끈 것으로 보인다.

증권업계에 따르면 국제엘렉트릭의 고객사별 매출비중은 삼성전자가 95%를 차지한다. 또한 3D 낸드플래시 공정으로 전공정 비중이 커진 점도 보탬이 된 것으로 보인다. 3D 낸드플래시는 메모리 셀을 수직으로 적층한 브이(V) 낸드를 일컫는 말이다. 종전 낸드 플래시보다 수명이 길고 전력 효율이 높으며 읽고 쓰는 속도도 두 배 이상 빠르다. 이에 따라 수요가 늘어나고 있다. 업계에 따르면 3D 낸드플래시 공정에선 증착·식각 공정 등 전공정 비중이 커진다.

한편, 국제엘렉트릭은 올해 1분기(4.1~6.30) 부진한 실적을 거뒀다. 삼성전자의 중국 시안 공장이 양산을 시작하면서 투자 공백기가 발생한 영향으로 보인다(관련기사 ☞ [즉시분석] 국제엘렉트릭, 1Q 부진에 급락...향후는?). 국제엘렉트릭은 3월 결산법인이다.

▷ 꾸준한 영업이익률...안정적 원재료 공급 덕분

국제엘렉트릭의 영업이익률은 실적이 급감했던 2008년~2009년을 제외하고 대체로 12% 이상을 유지하고 있다. 최대주주인 일본의 히타치로부터 대부분 원재료를 매입하기 때문이다. 이에 다른 업체보다 안정적으로 원재료를 확보할 수 있다.



또한 국제엘렉트릭은 주력 고객사인 삼성전기, SK하이닉스와 꾸준히 차세대 장비를 개발해왔다. 반도체 생산기술이 향상됨에 따라 이에 걸맞는 장비도 요구됐기 때문이다. 오랜 기간 쌓아온 신뢰 및 기술력을 바탕으로 국제엘렉트릭은 주력 고객사 내 점유율을 안정적으로 유지하는 것으로 보인다.

▷ 시설투자 일단락, 무차입 경영으로 현금 쌓여

2012년까지 국제엘렉트릭의 이익이여금과 유형자산이 함께 늘어나고 있음을 볼 수 있다. 즉 영업으로 벌어들인 이익 대부분이 유형자산 투자에 사용됐다고 추정할 수 있다. 2009년 115억원이던 유형자산은 2012년 327억원으로 늘었다. 같은 기간 생산능력 또한 연간 144대에서 276대로 증가했다.

이후 유형자산은 비슷한 수준을 유지하고 있다. 대신 당좌자산이 크게 늘었다. 2012년 539억원이던 당좌자산은 올해 1분기 913억원으로 대폭 늘었다. 특히 현금및현금성자산이 306억원에서 734억원으로 증가했다.

국제엘렉트릭은 차입금이 없다. 이에 따라 당좌자산 가운데 현금및현금성자산과 단기금융자산을 모두 순현금으로 볼 수 있다. 올해 1분기 순현금은 784억원으로 시가총액의 36% 규모다.



지난해엔 배당금도 늘렸다. 지난해 배당금은 1000원으로, 시가배당률은 5.9%다. 올해에도 같은 배당금을 지급한다고 가정할 경우 전일(31일) 종가 기준 시가배당률은 4.5%다.

▷ 이익 따라 주가 상승..PER 10.9배

국제엘렉트릭의 주가는 이익과 대체로 같은 흐름을 보이고 있다. 지난해부터 순이익이 개선되면서 주가도 같이 오르고 있다. 지난해 6월 1000원이던 주당순이익은 올해 1분기 2026원으로 늘었다. 같은 기간 주가는 62% 올랐다. 7월 31일 종가 기준 주가수익배수(PER)는 10.9배다. 자기자본이익률(ROE)은 11.5%에서 19.5%로 높아졌고, 주가순자산배수(PBR) 또한 1.49배에서 2.14배로 상승했다.

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