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디에이테크놀로지, 2차전지의 셀 스택 및 적층장치 특허권 취득
디에이테크놀로지203원, 0원, 0%가 2차전지의 셀 스택 및 그 적층장치 및 방법에 관한 특허권을 취득했다고 11일 공시했다.
이에 따르면 특허 주요 내용은 회전판의 양측 각각에 2개의 분리막을 연결하고, 회전판을 180도씩 연속적으로 회전시키면서 2개의 분리막에 음극판 및 양극판을 동시에 전달하여 음극판과 분리막과 양극판을 교번으로 적층한 셀 스택을 제조할 수 있는 2차전지의 셀 스택 및 그 적층 장치 및 방법에 관한 것이다.
회사는 본 특허를 적용한 장비가 2차 전지 생산공정에 적용될 경우 스태킹공정의 적층 속도를 향상시켜 생산 효율성을 더욱 높일 수 있을 것으로 기대한다고 밝혔다.
디에이테크놀로지는 2차전지 설비인 Notching 및 Folding의 제조 및 판매를 하는 업체다.
11일 종가는 전일보다 0.33% 내린 6000원을 기록했다. PBR은 1.48배, ROE는 -30%다.
이에 따르면 특허 주요 내용은 회전판의 양측 각각에 2개의 분리막을 연결하고, 회전판을 180도씩 연속적으로 회전시키면서 2개의 분리막에 음극판 및 양극판을 동시에 전달하여 음극판과 분리막과 양극판을 교번으로 적층한 셀 스택을 제조할 수 있는 2차전지의 셀 스택 및 그 적층 장치 및 방법에 관한 것이다.
회사는 본 특허를 적용한 장비가 2차 전지 생산공정에 적용될 경우 스태킹공정의 적층 속도를 향상시켜 생산 효율성을 더욱 높일 수 있을 것으로 기대한다고 밝혔다.
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